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光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字 MASK 或 PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细***，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格，现阶段光掩模板大部分全是用的正性胶。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1。光刻正性胶在经激光器直射后，曝 i 光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。）把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝 i 光在光感应胶上,被曝 i 光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝 i 光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准***，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝 i 光，显影，去光感应胶，***终运用于光蚀刻工艺。

荷兰的A***L公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术***。主要是技术难度太大。

　　其次是资金上的困难：

　　光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。

　　荷兰的A***L,为了筹集i资金，同时也是进行上下游利益***，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。A***L实际上是美、日、韩、德等共同***的项目，资金充裕。

　　中国也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

掩膜（MASK）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是：程序流程靠谱、低成本。荷兰的A***L,为了筹集i资金，同时也是进行上下游利益***，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。